光刻过程（图片来源：ASML）
钛媒体App 6月25日音问，浙江省绍兴市越城区融媒体中心官方账号“越城发布”24日公布一篇题为《国产光刻机工场落户越城》的著述，先容了总投资约50亿元东谈主民币的上海图双精密装备形态落户绍兴市越城区的音问。
越城区融媒体中心称，该形态策永诀两期扩充：一期策划投资约5亿元，一期占大地积35亩，用于鼎新及扩大公司现在在上海的产能；二期策划投资约45亿元。两期将结束年产50-100台半导体拓荒的遐想。形态正在配置中，瞻望2025年投产。
这是频年来，国内场所机构官方层面疏远流露的光刻机拓荒联系音问。
据悉，光刻机（Mask Aligner)，别名掩模瞄准曝光机，是芯片制造历程中光刻工艺的中枢拓荒。光刻工艺是将掩膜版上的几何图形鼎新到晶圆名义的光刻胶上。光刻胶照管拓荒把光刻胶旋涂到晶圆名义，再经过分步类似曝光和显影照管之后，在晶圆上形成需要的图形。
本色上，芯片的制造历程极其复杂，而光刻工艺是制造历程中最关键的一步，光刻细目了芯片的关键尺寸，在统统芯片的制造过程中约占据了举座制变资本的35%。因此，光刻机又被誉为芯片制造中“王冠上的明珠”。
现在，光刻机开始进的时候主要来自荷兰的ASML（阿斯麦）、日本的尼康、佳能三大国际大厂，尤其是最为先进的EUV（极紫外）光刻机，全宇宙仅有ASML一家省略提供，其零件数目最初45万个。
关于国内光刻机范畴，宽绰晶圆代工和制造企业仍需通过入口来得志集成电路产业发展的需求，因此，国产光刻拓荒一直处于“卡脖子”状况，尤其是第五代光刻机13.5nm波长的EUV，中国企业难以入口。
凭证ASML年报数据，收尾2022年底，ASML系数出货182台EUV光刻机，主要客户包括英特尔、三星、台积电、好意思光和SK海力士。
然而，需要教唆的是，上海图双并非公共所以为的“国产光刻机厂商”，其主要业务是作念半导体拓荒革命和调试。
上海图双精密装备有限公司（上海图双）董事长钟敏涌现，该公司不仅能凭证市集需求研发坐褥国产光刻机，也能对海外光刻机进行定制化阅兵、调试。现在，上海图双的时候能力和资源已袒护ASML、尼康、佳能三家公司的6英寸、8英寸、12英寸光刻机，能按照不同的芯片居品特点及工艺进行拓荒再制造、时候匹配、工艺调试等定制化劳动。
（本文首发于钛媒体App，作家｜林志佳，裁剪｜胡润峰）